GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪
描述
产品优势：
可制备各种金属、 单质、 无机非金属薄膜
不破真空情况下， 可实现多层复合膜制备
一键操作， 全自动控制， 智能化程度高
一致性、 重复性好
内置多重靶材工作参数， 无需摸索镀膜工艺
体积小， 结构紧凑， 非常节约空间
产品参数：
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外形尺寸（主机） |
424(L)×345(D)×420(H) |
输入电源 |
220V/50Hz 1000W |
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溅射靶头 1 |
直流磁控溅射 |
可用靶材 |
金属靶材 |
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溅射靶头 2 |
射频磁控溅射 |
可用靶材 |
无机非金属靶材 |
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真空系统 |
涡轮分子泵+旋片式真空泵 |
抽速 |
90L/s + 1.1L/s |
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真空测量 |
复合式真空规 |
量程范围 |
1E-3 ~ 1E5Pa |
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真空室 |
φ 200×130mm 高硼硅玻璃 |
抽气节拍 |
10 分钟（≤5E-3Pa） |
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样品台尺寸 |
φ 90mm |
样品台切换 |
自动控制 |
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溅射靶材尺寸 |
φ 57mm（厚度 0.1-2mm） |
工作真空 |
0.1-2Pa |
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操作界面 |
7 英寸 TFT 触摸式液晶屏 |
操作语言 |
中文（可选其它语言） |
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冷水机 |
小型台式制冷机 |
冷水机功率 |
180W |
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预溅射挡板 |
标配全自动控制预溅射挡板 |
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膜厚仪（选配） |
可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，测量精度 0.01nm，设定精度 0.1nm，单次设定范围 1-999nm |
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温控组件（选配） |
样品台加热模块 300℃/500℃ |
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旋转组件（选配） |
倾斜旋转、行星旋转等 |
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小车（选配） |
将主机、射频电源、冷水机等组装在一起，整体性好 |
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安装环境 |
220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气（出口压力 0.12MPa） |
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