GVC-1000全自动离子溅射仪


描述
  1. 离子溅射仪工作原理:磁控溅射
  2. 可选靶材:金,铂,金钯合金,铅,银,铜,铬,锑等
  3. 真空室:φ128×100高硅硼玻璃
  4. 全自动操作,简单易用,非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等
  • 溅射电流自动调整——设定溅射电流后,系统自动调节真空度,从而达到设定的溅射电流,调整时间<5s,波动范围<±5%;

无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。

  • 溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可;
  • 参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长,系统自动计算叠加,无需终止溅射过程;
  • 工作完成自动放气;
  • 样品台高度调节1秒完成;
  • 溅射过程可以利用曲线显示,清晰直观。
  • 极限真空:小于1Pa
  1. 软硬件互锁,防误操作,安全可靠
  • 真空度高于100Pa,启动真空保护,无法溅射;
  • 溅射电流高于50mA,停止溅射过程;
  • 真空泵工作时,系统无法进行放气操作;
  1. 镀层均匀,导电性良好