GVC-2000磁控离子溅射仪
GVC-2000磁控离子溅射仪颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜；低压大电流溅射，效率更高。
描述
GVC-2000磁控离子溅射仪（镀金仪）特点
- 基本无温升、样品表面无热损失
GVC-2000制样效果图 其他制样设备效果图
上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片，左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图，可以看出，样品形貌真实完整，右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片，可以看出，热损伤严重，几乎无法识别为同种样品。
- 颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜
金颗粒尺寸：6~10nm
陶瓷膜，镀层材料Pt，10万倍图片，无颗粒感 滤膜材料，镀层材料Pt，20万倍图片，无颗粒感
- 低压大电流溅射，效率更高
