GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪

　　GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪（手套箱专用离子溅射仪）自动化程序控制，一键式操作，让镀膜更加高效。该设备采用触摸控制，外置泵组设计，采用平面磁控溅射靶设计，从而使试样在热效应最小的条件下得到最有效的溅射效果，常用于锂电池电极防氧化研究中。
　　一、手套箱专用离子溅射仪技术参数
　　1、输入电压：AC220V±10%，50Hz
　　2、工作电压：DC2400V
　　3、最大功率（主机与机械泵）：500W
　　4、工作原理：磁控溅射
　　5、工作环境：温度 5～40℃，湿度<60%
　　6、存储环境：温度-10~60℃，湿度<80%
　　7、真空泵：两级直联旋片式真空泵 1L/s
　　8、整机尺寸（长×宽×高）：424×271×255（mm）
　　9、重量（主机）：11 kg
　　10、真空腔：φ128×130mm
　　11、样品杯：φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
　　12、工作气体：Air / Ar
　　13、保护功能：过流、真空双保护
　　14、可选靶材：金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属
　　二、手套箱专用离子溅射仪主要特点
　　1、可用于纯氩、纯氮环境，使样品免受氧气、水蒸气或其他污染。
　　2、助力新型电池研究
　　3、提供全套解决方案及交钥匙服务。