GVC-2000磁控离子溅射仪

GVC-2000磁控离子溅射仪颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜；低压大电流溅射，效率更高。

GVC-2000磁控离子溅射仪（镀金仪）特点

1、基本无温升、样品表面无热损失


GVC-2000制样效果图	其他制样设备效果图

上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片，左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图，可以看出，样品形貌真实完整，右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片，可以看出，热损伤严重，几乎无法识别为同种样品。

2、颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜


金颗粒尺寸：6~10nm


陶瓷膜，镀层材料Pt，10万倍图片，无颗粒感滤膜材料，镀层材料Pt，20万倍图片，无颗粒感

3、低压大电流溅射，效率更高